所谓集成电路布图设计，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。上述的集成电路，是指半导休集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或全部互连线路集成在基片中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。

1、要求保护的布图设计必须具有独创性，即该布图是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时，该布图设计不是布图设计创作者和集成电路制造者中公认的常规设计；

2、受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体同样应当具有独创性。

 

1、布图设计的复制件或图样；

2、布图已投入商业使用的，应提交含有该布图的集成电路样品。

 

1、申请人提交的复制件或者图样应当至少放大到用该布图所生产电路的20倍以上；

2、布图设计的复制件图样有多张纸件的，应按顺序编号并附具目录；

3、布图设计的复制或者图样应当使用A4纸格式，一式两份；

4、复制件或者图样可以出具简单的文字说明，用以说明集成电路布图设计的结论、技术、功能。

 

申请保护的布图设计在申请日前已投入商业利用的，应当在申请时提交4件含有该布图的集成电路样品，并应当符合下列要求：

所提交的4件集成电路样品要置于能保证其不受损坏的专用器具中；

器具中的集成电路样品应当采用适当的方式固定，不得有损坏，并能够在干燥器中至少存放十年。